Comparação de técnicas de extração de tensão de limiar para finFETs de germânio

ID: 
5813
Sala virtual: 
https://us02web.zoom.us/j/84589806277?pwd=WHMzd3o0TnpjcGNYUEtQaFJSNWkwZz09
Vídeo: 
https://peertube.td.utfpr.edu.br/videos/watch/12731e01-c3da-4fff-b252-bf3ec658fb15
Resumo: 
Esse manuscrito apresenta uma análise comparativa de métodos de extração de um parâmetro elétrico importante de Transistores de Efeito de Campo Metal-Óxido-Semicondutor (MOSFETs), o qual indica transição de estado, desligado para ligado, do dispositivo, conhecido como tensão de limiar. Para isso, três técnicas difundidas na literatura são utilizadas, a saber, corrente constante, extrapolação linear e segunda derivada, por meio de inspeção da curva transferência do transistor, ou seja, corrente dreno em função da tensão aplicada ao terminal de porta. O objeto de estudo deste trabalho é MOSFET de porta tripla do tipo enriquecimento de canal p (p-finFET) de canal de germânio. Neste contexto, dispositivos de diferentes comprimentos de canal e largura de aleta larga fixa são avaliados, a fim de verificar o efeito de canal curto na tensão de limiar, bem como da resistência série com a redução do comprimento de canal. Por fim, é mostrado que os métodos da extrapolação linear e da segunda derivada são mais confiáveis, devido à proximidade entre seus resultados.
Autor(es): 
ISABELLA
CRISTINA
SCOTTA
Universidade Tecnológica Federal do Paraná, Toledo, Paraná, Brasil
isahcs9@gmail.com
Departamento de Engenharia Eletrônica - Nanoeletrônica
ALBERTO
VINICIUS DE
OLIVEIRA
Universidade Tecnológica Federal do Paraná, Toledo, Paraná, Brasil
avdo@utfpr.edu.br
Departamento de Engenharia Eletrônica - Nanoeletrônica
Modalidade: 
Engenharia Elétrica
Data: 
23/11/2020
Hora: 
14:30